삼성전자, 올해 총 46조2천억원 사상 최대 시설투자… 4분기도 반도체 집중

삼성전자가 올해 4분기에 반도체 시설투자를 중심으로 대규모 투자를 이어간다. 올해 총 시설투자 규모는 46조2천억원으로 사상최대가 될 전망이다. 사진은 증설이 예정된 삼성전자 평택 반도체사업장 전경. /삼성전자 제공

삼성전자가 올해 시설투자에 사상 최대 규모인 46조 2천억 원을 투입한다. 지난 3분기까지 투입한 32조 9천억 원에 더해 4분기에도 13조 3천억 원을 투자한다.

삼성전자는 31일 공시한 '올해 3분기까지의 시설투자 결과와 4분기 계획'을 통해 이같이 밝혔다.

삼성전자는 올해 3분기에 총 10조 4천억 원의 시설투자를 했다. 반도체에 7조 2천억 원, 디스플레이에 2조 7천억 원이 투자됐다. 3분기 누계로는 32조 9천억 원이 집행됐다.

4분기에도 반도체 생산라인을 중심으로 투자를 계속해 올해 전체 시설투자는 약 46조 2천억 원에 달할 것이라고 밝혔다. 지난해 시설투자액 25조 5천억 원 대비 81.2% 증가한 규모로 사상 최대치다.

사업별로는 반도체에 29조 5천억 원, 디스플레이에 14조 1천억 원을 투입한다.

삼성전자 관계자는 반도체 관련 투자에 대해 "메모리의 경우, V낸드 수요 증가 대응을 위한 평택 1라인 증설과 D램 공정전환을 위한 투자가 진행되고 있으며, 파운드리는 10나노 공정 생산라인 증설에 투자되고 있다"고 밝혔다. 디스플레이의 경우는 "플렉서블 OLED(유기발광다이오드) 패널 고객 수요에 대응하기 위한 생산라인 증설 투자가 진행중"이라고 덧붙였다.

한편, 삼성전자의 4분기 투자는 상당 부분이 반도체 사업에 투자될 예정이며, 주로 신규부지 조성과 클린룸 공사 등 인프라 구축에 쓰일 전망이다.

/박상일기자 [e-mail]